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第226章 徐总师你还懂这个[4 / 5]

,带领我们拿下极紫外光源,否则纵使再有两年时间,恐怕也解决不了光刻机的核心光源系统。」

「今早我看网上大家的评论,几乎全在支持徐总师。」

全程暂时充当听客的徐铭,看到潘耀主动聊自己,忙摆了摆手谦逊应声。

「关于极紫外光源的实验验证结果,能取得这么大突破也离不开大家,不过针对此次海外采取的措施,我们必须要重视起来才行。」

「针对国产EDA的开发,以及光刻胶研究,同样需要加快研发进程。」

徐铭早上便听说了这件事情,对于海外方面的反应速度也颇为意外,不过倒完全在预料范围之内。

毕竟海外连晶片和半导体设备都已限制,哪还用在意设计软体和光刻胶。

「这个确实要重视。」贺鹏涛闻言当即点头认可。

丁顺安则接话道:「EDA和光刻胶,都属于晶片制造产业链中,不可或缺的重要一环,如果这两项无法同步解决,就算我们成功研发出先进的极紫外光刻机,照样无法让其发挥出作用。」

徐铭因在等离激元耦合态理论上的设想,为获得稳定极紫外光源找到了新方法。

这才阴差阳错担任了总设计师。

所以最开始的目标,便是研发出极紫外光刻机。

但眼下面对当前的局势,以及两位院院士意见,不得不对后续任务安排进行调整。

「贺院和丁院说的没错。」

他先是对贺鹏涛和丁顺安的话表达了认可,接著又详细讲出自己的想法。

「目前我们已成功掌握,稳定50瓦极紫外光源,材料研究院那边正在研发多环结构光源靶盘,只要一就位随时可以开始针对250瓦商用功率展开详细验证,彻底解决极紫外光刻机的核心光源系统。」

「等到这一阶段的时候,对高端光刻机研发的压力也能小上很多。」

「至于国产EDA晶片设计软体的开发————」

「就由我来接手。」

在经过认真的考虑之后,徐铭把自己的下阶段目标放在了EDA开发上。

反正有了稳定功率的极紫外光源,针对国产光刻机的研发工作,有贺鹏涛和丁顺安两位经验丰富的院士,照样能平稳的往下推进。

并不会耽误项目进度。

而他相比较物理光源现象的研究,开发算法编写软体程序要更加适合,要知道在信息领域内他同样是专业的。

且拥有著丰富经验。

另外在这几个月的

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