形成图案。
而且原料易得。重铬酸钾是常用化工原料，明胶更不用说。
“王工，”他忽然问，“如果不用胺类敏化，直接用重铬酸盐，感光性差多少？”
“差很多。”王技术员说，“可能需要曝光时间延长几倍，而且线条边缘不锐利。”
“但如果我们的光刻机曝光能量足够强呢？”
“那......也许可以试试。”王技术员不太确定，“但赵总工，这东西真不行。国际上的光刻胶都是专门的感光树脂，分辨率能达到微米级。咱们这个，可能连十微米都做不出来。”
“先别管国际上。”赵四说，“咱们的目标是做出能用的芯片，不追求性能多好。十微米的线条，对4位处理器来说，够不够？”
他看向陈启明。
陈启明皱眉想了想：“4004的最小线宽是8微米。如果咱们放宽到10微米……芯片面积会大一些，但功能应该能实现。”
“那就先解决有无问题。”赵四拍板，“王工，你带几个人，全力攻关重铬酸盐明胶。目标是：一、配方稳定，批批能用；二、分辨率尽量高；三、寿命尽量长。”
“好……我试试。”王技术员压力很大。
“不是你一个人。”赵四说，“林雪，你配合王工，负责测试。每配一批胶，马上上机试，记录效果。张卫东，你改造光刻机的曝光系统，提高紫外光强度，补偿感光度不足。”
“明白！”
“陈启明，你调整设计。”赵四继续说，“既然工艺能力有限，咱们就把设计放宽。线宽统一加到10微米，间距也放宽。先保证能做出来，再谈性能优化。”
“行。”
任务分下去，车间又动起来了。但气氛不一样了。之前是为提高良品率奋斗，现在是为生存奋斗。
王技术员的小组当天就配了五批胶，每批配方稍有不同。重铬酸盐浓度、明胶比例、水浴温度、搅拌时间……全都记录在案。
林雪带着人一批批试。效果确实不理想。有的胶涂不均匀，有的曝光后根本硬不起来，有的显影时整片脱落。
到了下午，终于有一批勉强能用。在硅片上曝光后，能形成模糊的图案，虽然线条边缘像狗啃的一样，但至少是个图案。
“赵总工，您看。”林雪把晶圆递过来。
赵四对着光看。线条很粗糙，有的地方宽，有的地方窄，但连续性是好的。
“能蚀刻吗？”
“试了，能。
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