年sEA在集成电路领域的突飞猛进，和在光刻机技术上所取得的突破是有着直接关系的。
四年前，永宁蔡司推出了具有划时代意义的步进式光刻机DSW4800。这款光刻机使用波长436纳米的g线作为曝光光源。镜头则是永宁蔡司的S-Planar10/0.28。
DSW的分辨率可达1微米，可以将电路刻到100毫米见方的区域，这是前所未有的突破。
这台光刻机在当时的价格为130万元，说是天价也并不过分，但更高的良率，更先进的制程，更高的芯片性，不仅让sEA的企业他的用户，还吸引了西门子、IBM，、美国国家半导体等都成为了永宁蔡司的客户。
尽管美国也有同类的光刻机，但是sEA的高性能的光刻机，其稳定性和自动化程度更加优异。所以永宁蔡司占据着全球70%以上的市场。
就是靠着这一款跨时代的光刻机，才在真正意义上敲开了电子时代的大门。
“光刻机……最关键的还是光刻机呀。”
李毅安自言自语道。
正是因为在另一个世界有过被卡脖子的经历，所以在研究光刻机上，李毅安一直都是非常用心的。
尽管对于这一领域，他是一个外行，但是靠着系统赋予的技能，光刻机的研究上，他确实给予了很大的指导作用。
走到桌边，李毅安又一次翻开了那份报告，翻到光刻机的内容，看着对光刻机的发展规划。
李毅安自言自语道。
“这种步进式光刻机还有进一步研究的潜力……”
并不仅仅只是潜力。事实上，直到90年代，所有的芯片都是由这种不经时光刻机所生产的，
但是最终他还是淘汰了，因为摩尔定律。随着芯片制程的不断缩小，晶体管密度按照摩尔定律每18个月倍增加。这意味着需要更加优良的光刻机。
在长达20年的时间里，基于透镜组的步进式光刻机，都可以满足这一需要。通过不断对光源以及生产工艺的改进他甚至可以生产几微米的芯片。
直到21世纪初，采用极紫外光源上的EUV光刻机问世，完全颠覆了所有的仪器。
而EUV光刻机的发明，可能是当时人类科技领域所到达的最高峰，这是人类突破艰难科技问题、花费巨额研发资金才孕育出的智慧结晶。
他的发明可以说是汇集了整个西方世界在这一领域内的最先进技术。
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